X-射线光电子能谱仪,是一种表面分析技术,主要用来表征材料表面元素及其化学状态。其基本原理是使用X-射线,如Al Ka =1486.6eV,与样品表面相互作用,利用光电效应,激发样品表面发射光电子,利用能量分析器,测量光电子动能(K.E),根据B.E=hv-K.E-W.F,进而得到激发电子的结合能(B.E)。
主要用途: XPS: 1.固体样品的表面组成分析,化学状态分析,取样深度为~3nm 2.元素成分的深度分析(角分辨方式和氩离子刻蚀方式) 3.可进行样品的原位处理 AES: 1.可进行样品表面的微区选点分析(包括点分析,线分析和面分析) 2.可进行深度分析适合: 纳米薄膜材料,微电子材料,催化剂,摩擦化学,高分子材料的表面和界面研究
仪器类别: 03030707 /仪器仪表 /成份分析仪器
指标信息: 主真空室:
1×1010乇 XPS: AES: 分辨率:0.8cV 电子枪束斑:75nm 灵敏度:80KCPS 信噪比:大于70:1 角分辨:5°~90° 灵敏度:255KCPS A1/Mg双阳极靶 能量分辨率:0.3% 位置灵敏检测器(PSD)
附件信息: XPS:
1.快速氩离子刻蚀枪 AES:
1.快速氩离子刻蚀枪
2.能量损失谱 ,
主要研究领域包括:
(1)TiO2纳米光催化以及在空气和水净化方面的应用;
(2)汽车尾气净化催化剂新型金属载体的研究;
(3)纳米药物载体及靶向药物的研究;
(4)纳米导电陶瓷薄膜材料的研究;
(5)纳米杂化超硬薄膜材料及摩擦化学的研究;
(6)纳米发光材料及纳米分析化学研究;
(7)有机电致发光材料的表面化学研究;
(8)纳米材料在香烟减毒净化上的应用研究;
(9)无机纳米杀菌与抗菌材料及其在饮用水净化上的作用;
(10)电解水制氧电极材料的研究
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