真空镀膜机是一种直流磁控反应溅射镀膜机，主要应用于太阳能真空管的制造过程。根据厂家工艺要求和技术参数，以PLC、触摸屏作为硬件开发平台，设计三靶磁溅式真空镀膜机的电气控制系统。工件旋转和靶旋转均采用模块化的直流电机驱动电路，通过PLC软件程序实现电枢降压软起动。采用分子泵替代油扩散泵，解决了镀膜生产中油扩散泵出现的返油现象，提高镀膜质量，降低了控制系统的功耗，节约电能90％以上。分子泵VVVF自适应控制的速度闭环控制建立于真空室真空度的基础上，从而有效解决了真空度稳定和陡降之间的矛盾。获得了与技术工艺参数相适应的靶电源模糊控制方法，该方法用软件程序简化硬件电路，明显优于传统的PID控制方法，模糊化处理的电流反馈回路解决。
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