WSF40130 是一款由 WSI(Win Semiconductors)生产的高性能射频功率晶体管,采用 GaN(氮化镓)技术制造,适用于高频、高功率应用。该器件在设计上具备高效率和高线性度的特点,适用于通信基础设施、雷达系统、测试设备和其他射频功率放大应用。
类型:GaN HEMT
最大漏极电压:120 V
最大漏极电流:12 A
输出功率:30 W
频率范围:2.7 GHz - 3.5 GHz
增益:12 dB
效率:65% 以上
封装类型:表面贴装(SMD)
工作温度范围:-55°C 至 225°C
WSF40130 是一款基于 GaN 技术的射频功率晶体管,具有优异的高频性能和高功率密度。该器件采用先进的 GaN-on-SiC(氮化镓在碳化硅上)工艺制造,使其在高频段(2.7 GHz 至 3.5 GHz)具有出色的输出功率和效率。该晶体管的典型输出功率为 30 W,增益可达 12 dB,同时保持超过 65% 的漏极效率。
由于 GaN 材料的高电子迁移率和优异的热稳定性,WSF40130 能够在高电压(高达 120 V)和高电流(12 A)条件下稳定工作。其表面贴装封装(SMD)设计便于在现代射频电路中实现高密度集成,同时保证良好的散热性能。
此外,该器件具有良好的线性度和稳定性,适合用于多载波通信系统和需要高保真度信号放大的应用。其宽工作温度范围(-55°C 至 225°C)使其适用于各种恶劣环境条件下的工作场景,如航空航天、军事雷达和工业控制系统。
WSF40130 主要用于高性能射频功率放大器的设计,适用于 2.7 GHz 至 3.5 GHz 频率范围内的多种应用。其中包括:
1. 通信基础设施:如 4G/5G 基站、微波回传系统和小型蜂窝基站;
2. 雷达系统:包括相控阵雷达、气象雷达和军用雷达;
3. 测试与测量设备:如信号发生器、频谱分析仪和功率放大测试平台;
4. 工业与医疗设备:例如射频加热系统、等离子体发生器和工业射频能量应用;
5. 军事与航空航天:用于电子战系统、卫星通信(SATCOM)和高可靠性通信系统。
由于其高效率、高功率密度和良好的线性度,WSF40130 也广泛用于需要高能效和紧凑设计的便携式或高密度射频系统。
CGH40030P, NPT2025, GAN1935