RF5375PCK-410 是一款由 Renesas(瑞萨电子)推出的射频(RF)功率晶体管,属于横向扩散金属氧化物半导体(LDMOS)技术类别。这款晶体管专为高功率、高频率应用设计,常见于无线通信基础设施、基站放大器和工业射频系统中。RF5375PCK-410 提供了卓越的线性度和效率,适用于多种射频功率放大场景。
类型:LDMOS 射频功率晶体管
频率范围:2.3 GHz - 2.7 GHz
输出功率:500 W(典型值)
漏极电压:65 V
工作电流:1.5 A(典型值)
增益:25 dB(典型值)
效率:40%(典型值)
封装类型:陶瓷封装
热阻:0.35°C/W
工作温度范围:-65°C 至 +150°C
RF5375PCK-410 拥有出色的射频性能和可靠性,适用于多种高要求的射频功率放大场景。
首先,该器件采用了先进的 LDMOS 技术,能够在高频率范围内提供稳定的输出功率和高效的能量转换。其工作频率范围为 2.3 GHz 到 2.7 GHz,适用于现代无线通信系统中的主要频段,例如 LTE、5G 和其他宽带通信标准。
其次,RF5375PCK-410 提供了高达 500 W 的输出功率,非常适合需要高功率放大的应用,例如基站功率放大器。其漏极电压为 65 V,能够在较高的电压条件下稳定工作,同时保持较低的电流消耗(典型工作电流为 1.5 A),这有助于提高系统的整体效率。
此外,该器件具有 25 dB 的典型增益值和 40% 的效率,使其在高功率输出的同时保持较低的功耗和热量产生。其封装采用高热导率的陶瓷材料,热阻为 0.35°C/W,能够有效散热,确保设备在高功率运行时的稳定性和可靠性。
最后,RF5375PCK-410 的工作温度范围为 -65°C 至 +150°C,适应了极端环境条件下的应用需求,确保设备在各种气候条件下都能正常运行。
RF5375PCK-410 主要用于无线通信基础设施中的射频功率放大器设计,例如 4G/5G 基站、广播发射机和工业射频加热系统。
在无线通信领域,该器件广泛应用于基站功率放大器中,用于增强信号传输的覆盖范围和稳定性。由于其工作频率范围覆盖了现代无线通信的主要频段(2.3 GHz - 2.7 GHz),RF5375PCK-410 能够支持 LTE、5G 和其他宽带通信标准,为高数据速率传输提供可靠的功率放大解决方案。
在广播和通信发射系统中,该晶体管可作为高功率射频放大器的核心组件,用于增强广播信号的传输距离和覆盖范围。此外,它还适用于射频测试设备和工业射频加热系统,如射频能量传输和等离子体生成设备。
RF5375PCK-410 的高性能和高可靠性使其成为各种高功率射频应用的理想选择,特别是在需要稳定输出功率和高效能转换的系统中。
NXP MRFE6VP61K25H, Cree CGH40050F