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PHB55N03LTT/R 发布时间 时间:2025/8/7 10:51:27 查看 阅读:6

PHB55N03LTT/R是一款由NXP Semiconductors(恩智浦半导体)制造的N沟道增强型功率MOSFET(金属氧化物半导体场效应晶体管),主要应用于需要高效、低导通电阻和高电流能力的电源管理系统中。该器件采用先进的TrenchMOS技术,具有较低的导通电阻(Rds(on))和优异的热性能,适用于负载开关、DC-DC转换器、电池管理系统等应用领域。PHB55N03LTT/R采用小型化的封装形式,便于在高密度PCB布局中使用。

参数

类型:N沟道MOSFET
  漏源电压(Vds):30V
  栅源电压(Vgs):±20V
  连续漏极电流(Id):55A
  导通电阻(Rds(on)):@4.5V=8.5mΩ(最大)
  工作温度范围:-55°C至175°C
  封装类型:TO-252(DPAK)
  安装类型:表面贴装

特性

PHB55N03LTT/R具有多项优异的电气和物理特性,适用于高要求的电源管理应用。
  首先,该MOSFET的低导通电阻(Rds(on))可显著降低导通损耗,提高系统效率。其典型值在Vgs=10V时为7.5mΩ,最大值为8.5mΩ,确保在高电流条件下仍能保持较低的功率损耗。
  其次,PHB55N03LTT/R支持高达55A的连续漏极电流,能够胜任大功率应用的需求。其漏源电压额定值为30V,栅源电压范围为±20V,具有较强的电压耐受能力和稳定性。
  该器件采用TO-252(DPAK)封装,具备良好的散热性能,适用于表面贴装工艺,便于自动化生产并提高PCB空间利用率。此外,该MOSFET的工作温度范围宽达-55°C至175°C,适用于各种严苛的工业和汽车电子环境。
  PHB55N03LTT/R还内置了快速恢复二极管,提高了开关性能,并减少了开关损耗。其栅极电荷(Qg)较低,有助于降低驱动电路的复杂性和功耗,从而提升整体系统的效率和可靠性。
  综上所述,PHB55N03LTT/R凭借其低导通电阻、高电流承载能力、优良的热管理和封装优势,在电源管理、电机控制、电池供电系统以及汽车电子等应用中具有广泛的适用性。

应用

PHB55N03LTT/R广泛应用于各类需要高效功率控制的电子系统中。常见的应用包括DC-DC转换器、同步整流器、负载开关、电源管理系统、电机驱动器、电池充电和保护电路、工业控制设备以及车载电子系统。由于其高电流能力和低导通电阻,特别适用于需要高效率和紧凑设计的电源模块和嵌入式系统。

替代型号

SiSS55N03LGE,T1GE、IRF55N03L、FDS55N03L

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