MRF284C是一款由NXP Semiconductors生产的射频功率晶体管,属于双极型晶体管(BJT)类别。该器件专为在高频应用中提供高功率放大功能而设计,广泛应用于工业、科学和医疗(ISM)频段的射频能量应用,如射频加热、等离子体生成、射频激励器等。MRF284C具有较高的输出功率、良好的热稳定性和可靠性,适合需要高效率和高稳定性的射频系统设计。
类型:射频功率晶体管
晶体管类型:PNP双极型晶体管(BJT)
最大集电极电流(Ic):1.5 A
最大集电极-发射极电压(Vce):65 V
最大集电极-基极电压(Vcb):65 V
最大功耗(Ptot):150 W
工作温度范围:-65°C至+200°C
频率范围:最高可达500 MHz
增益(hfe):典型值为50(在Ic=0.75 A,Vce=2 V条件下)
封装类型:TO-240AB
引脚数:3
材料:硅(Si)
MRF284C是一款专为射频功率放大应用设计的高性能晶体管。其主要特性之一是能够在高频条件下(最高达500 MHz)保持良好的放大性能和稳定性。这使其非常适合用于ISM频段的射频能量系统。该器件的封装形式为TO-240AB,具有良好的散热性能,能够有效管理高功率操作时的热量积累,从而提高器件的可靠性和寿命。
该晶体管的最大集电极电流为1.5 A,最大集电极-发射极电压为65 V,确保其在高电压和高电流条件下仍能稳定运行。此外,MRF284C的最大功耗为150 W,表明其具有较强的功率处理能力,适合用于高功率密度的射频放大器设计。
在电气性能方面,MRF284C在Ic=0.75 A、Vce=2 V条件下的典型增益(hfe)为50,这使得它在中等增益应用中表现出色。该器件的工作温度范围广泛,从-65°C到+200°C,使其适用于各种严苛环境下的应用,如工业加热、射频焊接和射频驱动系统。
由于其出色的热稳定性和高可靠性,MRF284C被广泛用于射频功率放大器的设计中,特别是在需要长时间连续工作的工业和医疗设备中。此外,其结构设计和材料选择也有助于提高其抗热疲劳能力和长期稳定性,确保在复杂的工作环境中保持一致的性能表现。
MRF284C广泛应用于需要高功率射频放大的工业和医疗设备中,典型应用包括射频加热系统、射频激励器、射频焊接设备、等离子体发生器以及工业自动化设备中的射频能量控制系统。此外,它还可用于通信基础设施中的射频放大器模块,尤其是在需要较高输出功率和稳定性的场合。
MRF284CA、MRF283C、MRF281C