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FV1.25-M4 发布时间 时间:2025/12/27 15:28:20 查看 阅读:16

FV1.25-M4并非一款电子元器件芯片,而是一种机械紧固件,具体为真空法兰连接件。该型号常用于高真空或超高真空系统中,作为管道、腔体或设备之间的密封连接部件。其名称中的‘FV’通常代表法兰类型(Flange Vacuum),‘1.25’表示适配的管道外径为1.25英寸(约31.75毫米),而‘M4’则指法兰上的螺纹孔规格为M4,用于通过螺栓实现法兰对的紧固。此类法兰遵循一定的工业标准,如CF(ConFlat)或ISO-K、ISO-F等标准,但FV系列更常见于小型真空系统,尤其在半导体设备、真空镀膜机、质谱仪、科研实验装置等场合中广泛使用。
  FV1.25-M4法兰通常由不锈钢材料制成,具备良好的耐腐蚀性、高温稳定性和机械强度,能够在高真空甚至超高真空环境下保持可靠的气密性。其密封方式一般采用金属密封圈(如铜密封圈)或弹性O型圈(如氟橡胶或硅胶),具体取决于应用环境的真空等级和温度要求。安装时需注意清洁法兰面和密封圈,避免颗粒污染导致漏气,并按照规定的扭矩均匀拧紧M4螺栓,以防止法兰变形或密封失效。此外,FV系列法兰具有结构紧凑、拆卸方便、重复使用性好等特点,适合需要频繁拆装的真空系统模块化设计。

参数

类型:真空法兰
  适配管径:1.25英寸(约31.75mm)
  连接方式:螺栓连接(M4螺纹孔)
  材质:不锈钢(常用304或316L)
  密封方式:O型圈密封或金属密封
  工作温度范围:-30°C 至 +200°C(取决于密封材料)
  适用真空范围:10^-6 mbar 至 大气压
  螺栓数量:通常为4个M4螺栓均布
  法兰厚度:约8-12mm(依具体设计而定)
  标准参考:部分符合ISO-K或定制规格

特性

FV1.25-M4真空法兰具备优异的密封性能和机械稳定性,适用于中小型真空系统的连接需求。其核心特性之一是标准化接口设计,使得不同厂商的设备能够实现互换和对接,提升了系统的兼容性和扩展能力。该法兰采用对称分布的M4螺栓结构,确保在紧固过程中压力均匀分布,有效防止因局部应力集中导致的法兰变形或密封圈挤出,从而保障长期使用的气密性。不锈钢材质赋予其出色的抗腐蚀能力,即使在含有微量腐蚀性气体或潮湿环境中也能保持长久寿命。此外,表面经过精细加工处理,光洁度高,与密封圈接触面平整,进一步提升了密封可靠性。
  该法兰支持多次拆装而不显著影响密封效果,特别适合实验室研究、设备调试或维护频繁的应用场景。配合不同材质的O型圈(如FKM氟橡胶耐高温、NBR丁腈橡胶耐油、VMQ硅胶宽温域),可灵活适应多种工艺条件。FV1.25-M4还具有结构紧凑、重量轻、安装简便的优点,节省空间的同时降低了整体系统的复杂度。在高纯度工艺中,可通过电解抛光处理减少表面吸附和颗粒释放,满足半导体或分析仪器对洁净度的严苛要求。由于其尺寸适中,常用于连接真空泵、阀门、传感器、腔体端口等组件,构成完整的真空管路系统。

应用

FV1.25-M4真空法兰广泛应用于各类需要可靠真空连接的工业与科研领域。在半导体制造设备中,它常用于连接真空腔室与气体输送模块或真空泵组,确保制程环境的纯净与稳定。在分析仪器如质谱仪、电子显微镜、X射线设备中,该法兰用于构建高真空样品室或检测区域的进出接口,保障仪器的灵敏度与准确性。科研实验室中的物理、化学气相沉积(PVD/CVD)装置也普遍采用此类法兰进行模块化组装,便于实验配置调整与系统升级。
  此外,在真空镀膜、真空干燥、离子注入、粒子加速器等高科技装备中,FV1.25-M4作为标准接口之一,承担着关键的连接功能。其良好的兼容性使其成为集成真空计、检漏仪、闸阀、节流阀等附件的理想选择。在医疗设备领域,如放射治疗装置或真空辅助成像系统,该法兰同样发挥着重要作用。得益于其稳定性和可重复使用性,FV1.25-M4也被广泛用于自动化生产线中的真空抓取系统或密封测试工装,提升生产效率与设备可靠性。

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