1、FED的电功率消耗低，要面板之操作电压低，电子发射材料之起始电场越低越好。

　　2、满足解析度需求，电子发射位置密度(ESD)需大於106cm-2。每个画素之电子源分布需均匀发射电子。

　　3、在高真空、高电压下维持辉光稳定性与元件寿命之技术与成本，决定产品之竞争力。

　　(1)其厚度小于6mm,因此它体积小,重量轻。

　　(2)可以高度集成FEA,可以很容易地制成高清晰和高亮度的显示板。

　　(3)运行电压低,功耗小,寿命长。可以预料它将是功耗的一种平板显示器件。

　　(4)图像质量高。FED可做到高亮度、高分辩率、全彩色、多灰度、高响应速度,且无视角的限制。

　　(5)发光亮度起伏小,成品率高。因为对应于一个象素的电子源是一个微发射尖阵列,有成百甚至上千个小发射尖锥,制作中即使个别小尖锥失效,对该象素的发光也无影响。

　　(6)FED不需偏转线圈,无X射线辐射,抗辐射和磁场干扰,工作温度范围宽(-40℃～+85℃),不需要背景光。

　　依电子发射源而分，场发射显示器可分为CNT（碳纳米管型）、SED（表面传导型）、Spindt（圆锥发射体型）、BSD（弹道电子放射型）等类型。目前最为看好的应用主要是CNT和SED两大技术体系。