膜厚仪可应用于在线膜厚测量,测氧化物,SiNx,感光保护膜和半导体膜.也可以用来测量镀在钢,铝,铜,陶瓷和塑料等上的粗糙膜层. 薄膜表面或界面的反射光会与从基底的反射光相干涉,干涉的发生与膜厚及折光系数等有关,因此可通过计算得到薄膜的厚度.光干涉法是一种无损,精确且快速的光学薄膜厚度测量技术,薄膜测量系统采用光干涉原理测量薄膜厚度。

　　1,可以测量多层膜中每一层的厚度

　　2,三维的厚度型貌

　　3,远程控制和在线测量

　　4,可做150mm or 300mm 的大范围的扫描测试

　　5,丰富的材料库:操作软件的材料库带有大量材料的n和k数据,基本上的常用材料都包括在这个材料库中.用户也可以在材料库中输入没有的材料.

　　6,软件操作简单,测速快:膜厚测量仪操作非常简单,测量速度快:100ms-1s.

　　7,软件带有构建材料结构的拓展功能,可对单/多层薄膜数据进行拟合分析,可对薄膜材料进行预先模拟设计.

　　8,软件带有可升级的扫描功能,进行薄膜二维的测试,并将结果以2D或3D的形式显示.软件其他的升级功能还包括在线分析软件,远程控制模块等

　　厚度测量:10纳米-250微米; 可以选择250nm-1100nm间任一波长,也可在该范围内选择多波长分析;

　　波长: 250-1100nm

　　厚度范围: 10nm--250m

　　分辨率: 0,1nm

　　重复性: 0,3nm

　　准确率: <1[%] (100nm--100m)

　　测试时间: 100ms -- <1s

　　分析层数: 1-- 4

　　离光纤距离: 1-5mm

　　离镜头距离: 5mm-- 100mm

　　入射角度: 90°

　　光斑点大小: 400m

　　微光斑手段: 与显微镜联用,1-- 20m with Microscope 10x/20x/50x Magnification and MFA-Adapter;

　　光纤长度: 2m (other lengthes on request)

　　接口: USB 1.1 (RS-232)

　　电源需求: 12 VDC@1,2A, 220 VAC 50/60 Hz

　　尺寸: 180mm x 152 mm x 263mm

　　总量: 3.5 kg

　　膜厚仪主要应用于晶片或玻璃表面的介电绝缘层(SiO2, Si3N4, Photo-resist, ITO, ...); 晶片或玻璃表面超薄金属层(Ag, Al, Au, Ti, ...); DLC(Diamond Like Carbon)硬涂层;SOI硅片; MEMs 厚层薄膜(100m up to 250m); DVD/CD 涂层; 光学镜头涂层; SOI硅片; 金属箔; 晶片与Mask间气层; 减薄的晶片(< 120m); 瓶子或注射器等带弧度的涂层; 薄膜工业的在线过程控制等等许多场合。