1、降低孔隙率,晶核的形成速度大于成长速度,促使晶核细化。
　　2、改善结合力,使钝化膜击穿,有利于基体与镀层之间牢固的结合。
　　3、改善覆盖能力和分散能力,高的阴极负电位使普通电镀中钝化的部位也能沉积,减缓形态复杂零件的突出部位由于沉积离子过度消耗而带来的“烧焦”“树枝状”沉积的缺陷,对于获得一个给定特性镀层(如颜色、无孔隙等)的厚度可减少到原来1/3~1/2,节省原材料。
　　4、降低镀层的内应力,改善晶格缺陷、杂质、空洞、瘤子等,容易得到无裂纹的镀层,减少添加剂。
　　5、有利于获得成份稳定的合金镀层。
　　6、改善阳极的溶解,不需阳极活化剂。
　　7、改进镀层的机械物理性能,如提高密度降低表面电阻和体电阻,提高韧性、耐磨性、抗蚀性而且可以控制镀层硬度。
　　传统的电镀抑制副作用的产生、改善电流分布、调节液相传质过程、控制结晶取向显得毫无作用,面对络合剂和添加剂的研究成了电镀工艺研究的主要方向。纳米开关电源解决了传统整流器存在的缺陷。
　　8、提高产品成品率、产品质量。

　　1、体积小、重量轻：
　　体积与重量为可控硅电源的1/5-1/10，便于您规划、扩建、移动、维护和安装。
　　2、节能效果好：
　　开关电源由于采用了高频变压器，转换效率大大提高，正常情况下较可控硅设备提高效率10%以上，负载率达70%以下时较可控硅设备提高效率30%以上。
　　3、输出稳定性高：
　　由于系统反应速度快（微秒级），对于网电及负载变化具有极强的适应性，输出精度可优于1%。开关电源的工作效率高、所以控制精度高，有利于提高产品质量。
　　4、输出波形易于调制：
　　由于工作频率高，其输出波形调整相对处理成本较低，可以较方便的按照用户工艺要求改变输出波形。这样对于工作现场提高工效，改善加工产品质量有较强作用。