TFC-115-02-F-D 是一种高性能薄膜电容器,主要用于高频和射频应用。它采用金属化薄膜技术制造,具有低ESR(等效串联电阻)和低ESL(等效串联电感),能够在高频条件下提供优异的性能。
该电容器适合于滤波、耦合和去耦等应用场景,并在高频率范围下表现出卓越的稳定性和可靠性。
额定电压:50V
电容量:0.01μF
耐压:63V
工作温度范围:-55℃ 至 +125℃
尺寸:11.5mm x 4mm
封装类型:径向引线
TFC-115-02-F-D 具有以下特点:
1. 超低ESR和ESL设计,非常适合高频电路应用。
2. 高稳定性,在温度和时间变化时保持稳定的电气性能。
3. 使用金属化薄膜技术,提高了自愈能力和可靠性。
4. 宽广的工作温度范围,能够适应恶劣的工作环境。
5. 径向引线封装,便于安装和焊接,同时具备良好的机械强度。
6. 符合RoHS标准,环保且安全。
TFC-115-02-F-D 广泛应用于各种高频电子设备中,包括但不限于以下领域:
1. 射频滤波器和匹配网络
2. 高速数据通信系统中的电源去耦
3. 医疗设备中的高频信号处理
4. 工业控制中的高频脉冲耦合
5. 汽车电子中的噪声抑制和滤波
其优异的高频特性和稳定性使其成为这些领域的理想选择。
TFC-115-02-F-E, TFC-115-02-F-C