TA20061803DH 是一款高性能的射频功率晶体管,主要用于高频通信系统中的功率放大器应用。该器件采用先进的半导体制造工艺,具备高效率、高线性度和高可靠性等优点,适合用于无线基础设施设备,如基站、中继器和其他射频通信设备。
类型:射频功率晶体管
工艺:LDMOS(横向扩散金属氧化物半导体)
频率范围:1.8 GHz - 2.5 GHz
输出功率:典型值为60W(连续波)
增益:23 dB(典型值)
效率:70%以上
工作电压:+28V
封装形式:D类封装(如DFN或类似)
TA20061803DH 采用了LDMOS技术,具备高效率和高线性度的特性,非常适合现代通信系统中对能效和信号质量的高要求。其宽频率范围使其适用于多频段操作,广泛支持2G、3G、4G和5G的早期部署。该器件具有良好的热稳定性和高可靠性,能够在恶劣环境下长时间运行。此外,其封装设计优化了散热性能,有助于提高整体系统的稳定性和寿命。
该器件的高增益特性降低了前级驱动电路的复杂性,同时具备良好的失真控制能力,有助于减少信号失真,提高通信质量。TA20061803DH 还具备较高的输入阻抗,简化了输入匹配网络的设计,从而降低了整体系统成本。
TA20061803DH 主要用于无线通信基站、中继器、直放站、广播系统以及各种高频功率放大器应用。它特别适合需要高输出功率和高效能的场景,如蜂窝通信、数字广播、微波通信以及工业和商业射频设备。
NXP AFT05MS006N、STMicroelectronics STAC221A、Infineon BLP0221、Cree CGH40060