RF6003TR13 是一款由 RF Micro Devices(现为 Qorvo)制造的射频(RF)功率晶体管,采用 GaAs HBT(Heterojunction Bipolar Transistor)技术制造。这款晶体管专为高功率和高频率应用而设计,适用于无线基础设施、基站、工业和通信系统等场景。RF6003TR13 采用紧凑的表面贴装封装,便于集成到现代射频系统中,同时具备高效率和高线性度的特点。
类型:GaAs HBT 射频功率晶体管
频率范围:2.3 GHz 至 2.7 GHz
输出功率:60 W(典型值)
增益:18 dB(典型值)
效率:约 50%
工作电压:28 V
封装类型:表面贴装(SMT)
阻抗匹配:50 Ω 输入/输出
热阻:约 0.35°C/W
工作温度范围:-40°C 至 +85°C
RF6003TR13 是一款高性能的射频功率晶体管,具有出色的输出功率和效率表现。其 GaAs HBT 技术确保了在高频操作下的稳定性和可靠性。该晶体管的工作频率范围为 2.3 GHz 至 2.7 GHz,适用于多种无线通信应用,包括 LTE 基站、WiMAX 系统和其他宽带通信设备。该器件的高增益(18 dB)和高效率(约 50%)使其在高功率应用中表现出色,同时减少了对散热系统的要求。
此外,RF6003TR13 的表面贴装封装设计使其易于集成到现代射频放大器模块中,简化了制造和组装过程。其低热阻(0.35°C/W)有助于提高器件的热稳定性和长期可靠性,确保在高功率操作下的性能一致性。该晶体管还具有良好的线性度,适用于需要高信号完整性的通信系统。
该器件的工作温度范围较宽,可在 -40°C 至 +85°C 的环境下稳定工作,适用于各种严苛的工业和户外应用场景。
RF6003TR13 主要用于无线通信基础设施中的射频功率放大器设计。其典型应用包括 LTE 基站、WiMAX 系统、DAS(分布式天线系统)和工业射频设备。此外,该晶体管也可用于测试设备、广播系统和军事通信设备等需要高功率和高频率性能的场合。
RF6004TR13, RF6002TR13, RF6001TR13