时间:2025/12/26 22:10:52
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R451010.MRL是一款由ROHM Semiconductor(罗姆半导体)生产的N沟道功率MOSFET,广泛应用于电源管理和开关电路中。该器件采用先进的沟槽式场效应晶体管技术制造,具有低导通电阻、高效率和优异的热稳定性等特点。其封装形式为SOP-8(表面贴装小外形封装),适合在空间受限的应用场景中使用,例如便携式电子设备、DC-DC转换器以及电机驱动系统等。
这款MOSFET设计用于高频开关操作,在低压大电流条件下表现出色,能够有效降低传导损耗,提高整体系统能效。R451010.MRL的工作电压范围适中,具备良好的栅极电荷特性,有助于减少驱动损耗并提升开关速度。此外,该器件还具备较高的雪崩耐量和抗瞬态过压能力,增强了其在复杂电磁环境下的可靠性。
由于其出色的电气性能与紧凑的封装尺寸,R451010.MRL被广泛用于消费类电子产品、工业控制模块及通信设备中的电源管理单元。制造商提供了完整的应用指南和技术支持文档,帮助工程师快速完成选型与电路设计。
型号:R451010.MRL
制造商:ROHM Semiconductor
器件类型:N沟道MOSFET
漏源电压VDS:30V
栅源电压VGS:±20V
连续漏极电流ID:19A(@TC=75℃)
脉冲漏极电流IDM:76A
导通电阻RDS(ON):4.3mΩ(@VGS=10V, ID=9.5A)
导通电阻RDS(ON):5.7mΩ(@VGS=4.5V, ID=9.5A)
阈值电压Vth:1.0V ~ 2.0V
输入电容Ciss:2020pF(@VDS=15V)
输出电容Coss:610pF(@VDS=15V)
反向传输电容Crss:100pF(@VDS=15V)
栅极电荷Qg:30nC(@VGS=10V, ID=19A)
功耗PD:36W(@TC=25℃)
工作结温TJ:-55℃ ~ +150℃
存储温度Tstg:-55℃ ~ +150℃
封装类型:SOP-8(Power SOP)
安装方式:表面贴装(SMD)
R451010.MRL N沟道MOSFET具备多项先进特性,使其在现代高效电源系统中表现卓越。首先,其极低的导通电阻RDS(ON)显著降低了在高电流条件下的功率损耗,提升了整体能效。在VGS=10V时,RDS(ON)仅为4.3mΩ,而在较低的栅极驱动电压4.5V下仍可维持5.7mΩ的低阻值,这使得该器件兼容3.3V和5V逻辑电平驱动,适用于多种控制器接口,无需额外的电平转换电路。
其次,该MOSFET采用ROHM专有的沟槽结构技术,优化了载流子迁移路径,提高了单位面积的电流承载能力。这种结构不仅增强了器件的电流密度,还改善了热分布,从而提升了长期运行的可靠性。结合SOP-8 Power封装,其热阻RθJC(结到壳)较低,有利于热量从芯片传递至PCB,实现有效的散热管理。
再者,R451010.MRL具有良好的开关特性,包括低栅极电荷(Qg=30nC)和低米勒电容(Crss=100pF),这些参数有助于减少开关过程中的能量损耗,提高开关频率,适用于高频DC-DC变换器拓扑如同步整流BUCK电路。同时,较低的输入和输出电容也减少了对驱动电路的要求,降低了EMI干扰风险。
此外,该器件具备优良的抗雪崩能力和稳健的栅氧化层设计,能够承受一定的瞬态过压和电流冲击,增强了系统在异常工况下的鲁棒性。其宽泛的工作结温范围(-55℃至+150℃)确保了在严苛环境下的稳定运行,适用于工业级和汽车级应用场景。综合来看,R451010.MRL是一款高性能、高可靠性的功率MOSFET,特别适合追求小型化与高效率的设计需求。
R451010.MRL广泛应用于多种需要高效功率开关的电子系统中。在电源管理领域,它常用于同步整流型DC-DC降压(BUCK)转换器中作为主开关或同步整流管,尤其适用于笔记本电脑、平板电脑和智能手机等便携式设备的电源模块,因其低RDS(ON)和小封装有助于提升能效并节省PCB空间。
在电池供电系统中,该器件可用于电池保护电路或负载开关,利用其低静态功耗和快速响应特性实现高效的通断控制。此外,在电机驱动应用中,如小型直流电机或步进电机的H桥驱动电路中,R451010.MRL凭借其高电流承载能力和快速开关特性,能够有效减少发热并提高驱动效率。
该器件也适用于LED驱动电源、USB PD快充适配器、无线充电发射端以及各类工业控制板卡中的电源部分。在服务器和通信设备的POL(Point-of-Load)电源设计中,多个R451010.MRL并联使用可满足大电流输出需求,同时保持良好的均流特性和热稳定性。
由于其SOP-8封装易于自动化贴片生产,且符合RoHS环保标准,因此非常适合大规模量产的应用场景。无论是消费类电子产品还是工业控制系统,R451010.MRL都能提供稳定可靠的功率切换解决方案,满足现代电子产品对小型化、高效率和高集成度的需求。
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