QPD1029LEVB5 是由 Qorvo 公司生产的一款 GaN(氮化镓)功率晶体管,主要用于射频(RF)和微波应用中的高功率放大器设计。这款晶体管以其高效率、高功率密度和卓越的热性能而著称,适用于无线基础设施、雷达系统、测试设备和工业应用。QPD1029LEVB5 采用先进的 GaN 技术,能够在高频段提供高线性度和稳定性。
器件类型:GaN 功率晶体管
工作频率:2.3 GHz 至 2.7 GHz
输出功率:100 W(典型值)
增益:18 dB(典型值)
效率:65% 以上(典型值)
封装类型:螺栓安装封装
漏极电压:50 V
工作温度范围:-55°C 至 +150°C
QPD1029LEVB5 拥有出色的射频性能和高功率密度,能够在高频段提供稳定的输出功率。其 GaN 技术确保了在高温环境下的可靠运行,同时具备良好的热管理和高耐久性。该器件具有高线性度和低失真,适用于需要高质量信号放大的应用。此外,QPD1029LEVB5 还具备良好的抗失真能力和高稳定性,使其在多载波和宽带应用中表现出色。
这款晶体管的设计考虑了高可靠性和长寿命,能够在苛刻的工作条件下保持稳定的性能。其封装设计优化了散热性能,降低了热阻,从而提高了器件的整体效率。QPD1029LEVB5 还具有优异的抗静电放电(ESD)能力和抗过载能力,确保在各种工作环境下的稳定运行。
QPD1029LEVB5 的高效率和紧凑设计使其成为无线通信基础设施、军事雷达系统和测试设备的理想选择。它能够满足高功率放大需求,同时减少系统功耗和散热需求,有助于降低整体系统成本。
QPD1029LEVB5 主要用于无线基础设施中的基站放大器、雷达和电子战系统、测试和测量设备、工业加热设备以及各种高功率射频应用。其高功率密度和高效能使其在需要高性能射频放大的场景中表现出色。此外,该器件也适用于宽带通信系统和多载波应用,能够提供稳定的信号放大和低失真性能。
QPD1015, QPD1025, QPD1030