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LTD51N10 发布时间 时间:2025/9/6 0:16:18 查看 阅读:5

LTD51N10是一款N沟道增强型功率MOSFET(金属氧化物半导体场效应晶体管),主要用于高功率、高效率的电源转换应用。该器件采用先进的沟槽技术,具有低导通电阻(Rds(on))、高电流承载能力和优异的热性能。LTD51N10通常用于DC-DC转换器、同步整流器、负载开关、电池管理系统(BMS)以及工业电源等场景。

参数

类型:N沟道MOSFET
  漏源电压(Vds):100V
  栅源电压(Vgs):±20V
  漏极电流(Id):50A(连续)
  导通电阻(Rds(on)):最大22mΩ @ Vgs=10V
  工作温度范围:-55°C ~ +175°C
  封装类型:TO-252(DPAK)或TO-263(D2PAK)
  功率耗散:100W
  栅极电荷(Qg):70nC(典型值)
  输入电容(Ciss):2000pF(典型值)

特性

LTD51N10 MOSFET具有多项优异的电气和热性能,适用于高功率密度和高效率的应用。其核心特性包括:
  1. **低导通电阻(Rds(on))**:最大仅为22mΩ,显著降低了导通损耗,提高了电源转换效率,特别适用于高电流应用场景。
  2. **高电流能力**:连续漏极电流可达50A,适用于大功率开关电源和电机驱动系统。
  3. **高耐压能力**:漏源电压(Vds)高达100V,能够承受较高的电压应力,确保在高压环境下的稳定运行。
  4. **快速开关特性**:具有较低的栅极电荷(Qg)和输入电容(Ciss),可实现快速开通和关断,减少开关损耗,提高系统效率。
  5. **优秀的热性能**:采用TO-252或TO-263封装形式,具备良好的散热能力,适用于高功率密度设计。
  6. **宽工作温度范围**:可在-55°C至+175°C范围内稳定工作,适应各种严苛的工业和汽车环境。
  7. **高可靠性**:采用先进的硅片工艺和封装技术,确保长期工作的稳定性和可靠性。

应用

LTD51N10 MOSFET广泛应用于多个领域,主要包括:
  1. **电源管理**:如DC-DC转换器、同步整流器、负载开关等,用于提高电源效率和功率密度。
  2. **工业控制**:如电机驱动、PLC系统、工业自动化设备中的功率开关。
  3. **通信设备**:如服务器电源、基站电源、UPS(不间断电源)等,用于高效率的电源转换。
  4. **新能源系统**:如太阳能逆变器、储能系统、电动车充电模块等,提供高效的功率控制方案。
  5. **电池管理系统(BMS)**:在电池充放电控制、保护电路中作为主开关器件。
  6. **消费类电子产品**:如高性能笔记本电脑电源适配器、智能家电等,实现高效率、小体积的电源设计。

替代型号

IRF540N, FDP51N10, STP55NF06L, SiR178DP

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