IPD19DP10NMATMA1 是一款基于氮化镓 (GaN) 技术的高效功率晶体管,专为高频和高效率应用设计。该器件采用先进的封装技术以提高散热性能,并具有低导通电阻和快速开关速度的特点。这种晶体管适用于电源管理、DC-DC转换器、逆变器以及射频功率放大器等场景。
型号:IPD19DP10NMATMA1
类型:增强型功率晶体管
材料:氮化镓 (GaN)
最大漏源电压(V_DS):600V
最大栅源电压(V_GS):±20V
连续漏极电流(I_D):10A
导通电阻(R_DS(on)):15mΩ
栅极电荷(Q_g):80nC
反向恢复时间(t_rr):<10ns
工作温度范围:-55℃至+175℃
IPD19DP10NMATMA1 晶体管具备以下特点:
1. 高效的氮化镓 (GaN) 材料使其拥有较低的导通电阻和更高的开关频率,适合高频应用。
2. 内部集成保护电路,防止过压和过流情况下的损坏。
3. 封装设计优化了热传导路径,从而提高了长期运行的可靠性。
4. 快速的开关速度降低了开关损耗,提升了整体系统效率。
5. 工作温度范围宽广,能够在极端环境下保持稳定性能。
6. 具备优异的抗电磁干扰能力,非常适合射频功率放大器中的使用。
这款功率晶体管主要应用于以下领域:
1. 通信设备中的射频功率放大器。
2. 高效DC-DC转换器和AC-DC转换器。
3. 新能源汽车中的车载充电器和逆变器。
4. 工业控制设备中的高频开关电源。
5. 数据中心和服务器的高效电源管理系统。
6. 太阳能逆变器以及其他需要高效率功率转换的应用场景。
IPD19DP10NMA, IPD19DP12NMATMA1, IPD18DP10NMATMA1