时间：2025/8/11 19:13:22
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DLP9500UVFLN 是由 Texas Instruments（德州仪器）推出的一款 DLP（Digital Light Processing，数字光处理）芯片，属于 DLP Discovery? 4100 系列。该芯片采用先进的 DLP 技术，结合高分辨率和高速度的微镜阵列，适用于高精度的光学投影和成像系统。DLP9500UVFLN 特别设计用于紫外（UV）光谱范围的应用，具备出色的光学性能和稳定性。该芯片封装为 FLN（Flip Chip Land Grid Array，倒装芯片网格阵列），适用于需要高精度、高反射效率和高分辨率的工业和科研设备。
分辨率：4096 x 2160 (4K UHD)
微镜数量：约880万
微镜尺寸：5.4微米
反射率：典型值 >90%
响应时间：2.2微秒
工作温度范围：-40°C 至 +85°C
封装类型：FLN（Flip Chip Land Grid Array）
控制接口：支持高速 LVDS 和 eLVDS
光谱范围：主要适用于紫外（UV）波段
DLP9500UVFLN 的核心特性之一是其针对紫外（UV）光谱范围的优化设计，使其在 UV 光源应用中表现出色，例如紫外曝光系统和 UV 固化设备。芯片内部的微镜阵列由高速数字电路控制，每个微镜可以独立开关，实现精确的光控制。这种高速度和高分辨率的结合，使得 DLP9500UVFLN 非常适合用于高精度的光学投影和图像处理应用。
此外，DLP9500UVFLN 支持多种控制接口，包括高速 LVDS 和 eLVDS，允许与各种主控系统无缝集成。其高反射率和低光学损耗特性确保了出色的光学性能，同时其封装设计（FLN）提供了良好的热管理和机械稳定性，适用于苛刻的工业环境。
该芯片还具有高度的可编程性，用户可以通过软件对微镜进行精细控制，实现复杂的光学模式和投影效果。此外，其高可靠性和长寿命设计（微镜结构采用 MEMS 技术制造）确保了在长时间运行中的稳定性和一致性。
DLP9500UVFLN 主要应用于需要高分辨率、高速度和高精度光学控制的工业和科研领域。例如，在紫外光刻设备中，它用于精确控制紫外光源的投影，实现高精度的光刻图案；在 UV 固化系统中，它用于控制 UV 光线的分布，提高固化效率和均匀性。此外，DLP9500UVFLN 还可用于 3D 打印中的光固化（DLP 3D 打印），实现高精度的层析成像和物体构建。
科研领域中，DLP9500UVFLN 可用于荧光成像、显微投影和光谱分析等应用，提供高分辨率的光学控制能力。在医疗设备中，它可以用于高精度的光学诊断系统，如内窥镜和光学相干断层扫描（OCT）设备。此外，在工业检测和测量系统中，DLP9500UVFLN 可用于高精度的光学投影和图像采集，提升检测精度和效率。
DLP6500UV, DLP7500UV
