时间：2025/7/15 20:20:35
阅读：7
DLP9000XUVFLS 是 Texas Instruments（德州仪器）推出的一款 DLP (Digital Light Processing) 数字微镜器件 (DMD)，专为高精度、高分辨率的光学系统设计。该芯片基于 DLP 技术，包含数以万计的微型可编程反射镜，每个微镜可以独立控制光线的反射方向，从而实现高分辨率的图像投影或光谱控制。DLP9000XUVFLS 特别适用于紫外 (UV) 光谱范围的应用，具备高反射率和优异的热稳定性。
型号：DLP9000XUVFLS
分辨率：4096 x 2160 (4K UHD)
微镜尺寸：约7.56μm x 7.56μm
微镜倾斜角度：±12°
工作波长范围：280nm - 400nm (UV)
封装类型：FLS (Flip Chip on Substrate)
输入接口：LVDS、HDMI
工作温度范围：-40°C 至 +85°C
DLP9000XUVFLS 芯片具备多项先进特性，适用于多种高精度光学控制场景。
首先，其高分辨率支持 4K UHD (4096 x 2160) 的图像处理能力，适用于高端投影、工业检测、医疗成像和光谱分析等应用。每个微镜尺寸为 7.56μm x 7.56μm，确保了高像素密度和细腻的图像表现。
其次，该芯片支持紫外波段（280nm - 400nm）的高效反射，微镜表面采用特殊镀层以提升在 UV 光谱范围的反射率和耐用性，适合紫外固化、紫外成像和光刻等领域。
此外，DLP9000XUVFLS 采用 FLS（Flip Chip on Substrate）封装技术，提供更优的热管理和机械稳定性，适用于高温或复杂环境下的长期运行。芯片支持 LVDS 和 HDMI 输入接口，便于与多种图像源或控制器集成。
最后，该器件具备快速响应能力，微镜切换时间在微秒级，能够实现高速图像刷新和动态光控。这种特性在高速光谱扫描、3D 打印和光学测量中具有重要应用价值。
DLP9000XUVFLS 被广泛应用于多个高精度光学系统领域。
在工业领域，该芯片可用于紫外激光投影、紫外固化设备、光刻机和光学测量仪器，实现高分辨率的图案生成和光束控制。
在医疗行业，DLP9000XUVFLS 适用于紫外成像系统、荧光显微镜和医学光谱分析仪，能够提供高对比度和高分辨率的图像处理能力。
在科研方面，该芯片可用于高光谱成像、动态光谱分析和光学镊子等实验装置，支持多种光学操控和数据采集需求。
此外，DLP9000XUVFLS 还可用于高端显示系统，如数字影院投影、虚拟现实（VR）设备和增强现实（AR）系统，提供清晰、细腻的视觉体验。
DLP650LNIRWVGA、DLP4710BEVM、DLP4500FQE
