CHA3093A99F/00 是一款由NXP Semiconductors(恩智浦半导体)推出的高性能射频(RF)功率晶体管,专为高功率放大器应用设计。该器件基于先进的LDMOS(横向扩散金属氧化物半导体)技术,能够在高频段提供出色的功率增益和效率,广泛应用于通信基础设施、工业设备以及广播系统等领域。CHA3093A99F/00 具备良好的热稳定性和可靠性,适用于连续波(CW)和脉冲工作模式。
类型:射频功率晶体管
技术:LDMOS
封装类型:气密封陶瓷封装
频率范围:2 GHz ~ 2.7 GHz
工作电压:28 V
输出功率:典型值为125 W(在2.15 GHz时)
增益:27 dB @ 2.15 GHz
漏极效率:65% @ 2.15 GHz
输入回波损耗:14 dB @ 2.15 GHz
工作温度范围:-55°C 至 +150°C
CHA3093A99F/00 采用了NXP先进的LDMOS工艺技术,具有优异的射频性能和高可靠性。该器件在2 GHz至2.7 GHz频段内表现出色,适用于多种高功率射频应用。其高输出功率(在2.15 GHz时可达125 W)和27 dB的增益使其能够在基站、广播系统和测试设备中实现高效的功率放大。此外,CHA3093A99F/00 具备较高的漏极效率(65%),有助于降低功耗并减少散热需求,提高系统的整体能效。
该晶体管采用气密封陶瓷封装,具备良好的耐环境能力和长期稳定性,适合在恶劣条件下工作。其输入回波损耗为14 dB,在高频下仍能保持良好的匹配性能,有助于减少信号反射并提高系统稳定性。工作温度范围从-55°C到+150°C,适应多种工业环境,确保设备在极端温度下仍能正常运行。
CHA3093A99F/00 还具备优异的热阻特性,能够有效散热,延长器件使用寿命。它支持连续波(CW)和脉冲工作模式,适应不同的应用需求。此外,该器件的高线性度和低失真特性使其在多载波通信系统中表现出色,适用于4G LTE基站和其他高功率射频放大器。
CHA3093A99F/00 主要用于高性能射频功率放大器的设计。典型应用包括蜂窝通信基站(如4G LTE和WiMAX)、广播发射机、工业加热设备、测试和测量仪器等。由于其在2 GHz至2.7 GHz频段的优异表现,它在现代无线通信系统中被广泛采用,特别是在需要高输出功率和高效率的场合。该器件也适用于雷达、航空电子设备和军用通信系统等高性能射频应用。
SPA1122, MRF6VP2150, CLF1H0215S, AFT05MS004N