CEP12D38-0R6MC-H 是一款由 CEL(California Eastern Laboratories)推出的高性能射频功率晶体管(RF Power Transistor),主要用于射频放大器应用,特别是在无线通信基础设施中。这款晶体管基于 GaN(氮化镓)技术,具有高功率密度、高效率和良好的热稳定性,适用于多种射频应用。CEP12D38-0R6MC-H 的设计旨在提供卓越的性能,支持高频率和宽带操作,是现代通信系统中的关键组件。
类型:射频功率晶体管
晶体管技术:GaN(氮化镓)
频率范围:DC - 4 GHz
输出功率:12W(典型值)
增益:22dB(典型值)
效率:65%(典型值)
漏极电压:50V
封装类型:表面贴装(SMT)
工作温度范围:-55°C至+150°C
输入阻抗:50Ω
CEP12D38-0R6MC-H 采用先进的 GaN 技术制造,具有优异的射频性能和可靠性。其高功率密度和高效率特性使其成为许多高要求应用的理想选择。GaN 技术提供了更宽的带隙,允许晶体管在更高的电压和温度下工作,同时保持稳定的性能。这种晶体管的高增益特性(22dB 典型值)使其能够有效地放大射频信号,而无需额外的放大级,从而简化了系统设计。
此外,CEP12D38-0R6MC-H 支持从 DC 到 4 GHz 的宽频率范围,适用于多种射频应用,包括无线基站、军事通信系统和测试设备。该晶体管的工作温度范围为 -55°C 至 +150°C,确保了其在各种环境条件下的稳定运行。表面贴装封装(SMT)设计使得该器件易于集成到现代 PCB 设计中,并有助于提高系统的整体可靠性和可制造性。
在热管理方面,CEP12D38-0R6MC-H 设计有良好的散热性能,能够在高功率输出下保持较低的结温,从而延长器件的使用寿命。其 50V 漏极电压能力也提供了更高的动态范围,使得该晶体管能够在高功率脉冲应用中表现出色。输入阻抗为 50Ω,与大多数射频系统的标准匹配良好,减少了额外的阻抗匹配电路的需求。
CEP12D38-0R6MC-H 主要用于无线通信基础设施中的射频放大器设计,包括 4G 和 5G 基站、军事通信系统、雷达、测试和测量设备等。由于其宽频率范围和高功率输出能力,该晶体管也适用于宽带射频放大器和多频段通信系统。在商业和工业应用中,它可用于射频加热、等离子体生成和射频识别(RFID)系统。此外,CEP12D38-0R6MC-H 还可用于卫星通信和航空航天领域的射频发射系统,确保在极端环境下的可靠运行。
CGH40010F, CFPD-1200-070F, NPT1007