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BFG11W/X 发布时间 时间:2025/12/27 20:53:07 查看 阅读:22

BFG11W/X是一款由Infineon Technologies(英飞凌)生产的N沟道MOSFET(金属氧化物半导体场效应晶体管),专为高频、高效率的射频(RF)功率放大应用而设计。该器件采用先进的硅外延技术制造,具备优良的射频性能和热稳定性,广泛应用于无线通信基础设施、基站放大器、工业射频设备以及广播系统中。BFG11W/X特别适用于工作频率在VHF/UHF波段的推挽式或单端放大器拓扑结构,能够提供较高的增益和良好的线性度,满足现代通信系统对高保真信号传输的需求。该器件封装于SOT-343(SC-89)小型表面贴装封装中,具有紧凑的尺寸和优异的散热性能,适合高密度PCB布局。由于其优化的栅极电阻设计,BFG11W/X在高频下表现出较低的噪声系数和较高的可靠性,是许多射频设计工程师在构建低噪声前置放大器或驱动级放大器时的首选之一。此外,该器件在制造过程中遵循严格的质量控制标准,符合RoHS环保要求,支持无铅焊接工艺,适用于自动化生产流程。

参数

类型:N沟道MOSFET
  最大漏源电压(Vds):20 V
  最大漏极电流(Id):150 mA
  最大功耗(Ptot):500 mW
  增益(|h21|):典型值 14 dB @ 1 GHz
  截止频率(fT):典型值 6 GHz
  输入电容(Ciss):典型值 1.3 pF
  输出电容(Coss):典型值 0.3 pF
  反向传输电容(Crss):典型值 0.07 pF
  栅极-源极击穿电压(Vgs):±10 V
  工作结温范围(Tj):-40 °C 至 +150 °C
  封装类型:SOT-343 (SC-89)

特性

BFG11W/X在高频射频应用中展现出卓越的电气特性,尤其适用于1 GHz以下至UHF频段的低噪声放大与驱动级设计。
  首先,该器件具有出色的增益性能,在典型工作条件下(如Vds = 12 V, Id = 50 mA),其小信号电流增益|h21|可达14 dB左右,确保了在有限的偏置功耗下实现高效的信号放大能力。这一特性使其非常适合用于接收链路中的第一级放大器,有助于提升整个系统的信噪比和灵敏度。
  其次,BFG11W/X具备非常低的输入和输出寄生电容(Ciss ≈ 1.3 pF, Coss ≈ 0.3 pF),这显著降低了器件在高频下的容性负载效应,从而提升了阻抗匹配的灵活性,并减少了外部匹配网络的复杂性。低Crss(反向传输电容)也意味着更强的输入-输出隔离能力,有助于抑制反馈振荡,提高电路稳定性。
  再者,该MOSFET拥有高达6 GHz的过渡频率(fT),表明其具备优秀的高频响应能力,能够在GHz级别频率范围内保持良好的增益平坦度,适用于宽带射频放大器设计。
  此外,BFG11W/X采用了优化的晶圆工艺和封装结构,使其在高温环境下仍能保持稳定的电气性能。其最大结温可达+150°C,结合仅500 mW的功耗限制,允许在紧凑空间内进行可靠部署。
  最后,该器件内置一定的栅极电阻以抑制寄生振荡,同时增强了对静电放电(ESD)的耐受能力,提升了现场使用的鲁棒性。综合这些特点,BFG11W/X成为高性能、小型化射频模块中不可或缺的关键元件之一。

应用

BFG11W/X主要应用于各类高频模拟和射频电子系统中,尤其是在需要高增益、低噪声和良好线性度的场合。
  它常被用作无线通信基站的前级低噪声放大器(LNA),用于增强微弱接收到的射频信号,同时尽可能减少自身引入的噪声干扰,这对于提高接收机的整体性能至关重要。
  此外,该器件也广泛用于UHF/VHF频段的电视广播发射设备、双向无线电通信系统(如对讲机、集群通信)、业余无线电设备以及CATV(有线电视)信号分配系统中的驱动放大级。
  在工业、科学和医疗(ISM)频段的应用中,BFG11W/X可用于构建小型化射频激励源,例如RFID读写器、感应加热控制器或等离子体发生器的信号驱动单元。
  由于其SOT-343封装体积小巧且支持表面贴装工艺,因此特别适合集成在高密度印刷电路板上,适用于便携式通信终端、微型中继器和远程传感器节点等空间受限的设计。
  同时,得益于其良好的温度稳定性和长期可靠性,BFG11W/X也可部署于户外环境或工业环境中运行的设备中,能够在较宽的温度范围和恶劣电磁环境下持续稳定工作。
  总之,无论是作为低噪声放大器、缓冲器还是射频驱动级,BFG11W/X都能提供一致且可预测的性能表现,是众多射频设计师信赖的选择。

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  BFG11W/215

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