1206N120G201CT 是一款基于氮化镓 (GaN) 技术的高电子迁移率晶体管 (HEMT),由知名半导体厂商生产。该型号设计用于高频和高功率应用场景,例如射频放大器、无线能量传输设备以及雷达系统等。其封装形式为表面贴装 (SMD),具有紧凑的尺寸和卓越的电气性能。
这款 GaN HEMT 的主要特点是能够在高频条件下保持高效率和高增益,同时具备较低的导通电阻和较高的击穿电压,非常适合需要高性能和高可靠性的应用场合。
最大漏源电压:120V
连续漏极电流:20A
输出功率密度:4W/mm
栅极电荷:15nC
导通电阻:30mΩ
击穿电压:150V
工作温度范围:-55℃ 至 +175℃
1206N120G201CT 拥有卓越的高频性能和高效的功率转换能力。与传统的硅基 MOSFET 相比,它能够提供更高的开关速度和更低的导通损耗,从而提高整体系统效率。
GaN 技术还赋予了这款晶体管更高的热稳定性,使其在高温环境下依然可以保持稳定的工作状态。
此外,1206N120G201CT 采用紧凑型 SMD 封装,减少了寄生电感和寄生电容的影响,进一步提升了高频性能。
该器件还支持快速的开关切换,适用于高频率下的脉冲调制应用。通过优化的制造工艺,保证了低噪声和高可靠性。
1206N120G201CT 广泛应用于高频功率放大器、Doherty 放大器、基站射频模块、航空航天及国防雷达系统、工业微波设备以及无线能量传输领域。
由于其高效率和高功率密度的特点,也常被用作激光驱动器或高速开关电路的核心元件。
另外,这款芯片还适合于要求苛刻的工业和医疗设备中,例如超声波发生器和粒子加速器等。
1206N120G101CT, 1206N120G301CT