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TMV1512DHI 发布时间 时间:2025/8/3 20:19:51 查看 阅读:26

TMV1512DHI是一款由东芝(Toshiba)制造的功率MOSFET(金属氧化物半导体场效应晶体管),主要用于高功率密度和高效能的电源管理应用。该器件采用了先进的沟槽式技术,具有低导通电阻(Rds(on))和优异的热性能,适用于诸如DC-DC转换器、负载开关、电机控制、电源管理系统等领域。TMV1512DHI采用高性能的封装设计,能够在高电流和高温环境下稳定运行,是一款高可靠性的功率MOSFET。

参数

类型:N沟道MOSFET
  最大漏极电流(ID):150A(在TC=25℃时)
  漏极-源极电压(VDS):12V
  栅极-源极电压(VGS):±20V
  导通电阻(Rds(on)):最大1.2mΩ(在VGS=10V时)
  封装类型:DFN10x12(双面散热)
  工作温度范围:-55℃至150℃
  热阻(Rth(j-c)):约0.25℃/W
  栅极电荷(Qg):约85nC(在VGS=10V时)

特性

TMV1512DHI具备多项先进的技术特性,首先其采用了东芝独有的U-MOS VIII-H沟槽工艺,使得导通电阻显著降低,从而减少功率损耗,提高系统效率。此外,该MOSFET具有极低的Rds(on)值,在高电流应用中能够有效降低发热,提高整体系统的可靠性。
  该器件的封装设计优化了热管理和电气性能,双面散热结构可以显著提升散热效率,适用于高功率密度的设计需求。此外,DFN10x12封装具有较小的PCB占用空间,适合紧凑型设计,同时具备良好的焊接稳定性和机械强度。
  TMV1512DHI在栅极驱动方面具有较低的输入电容和栅极电荷,使得开关损耗降低,提高了高频工作的性能表现。其快速的开关特性使其适用于高频率DC-DC转换器、同步整流器和电机驱动等应用。
  此外,该MOSFET具有较高的短路耐受能力,能够在短时间内承受较大的电流冲击而不会损坏,从而提高了系统的稳定性。同时,该器件符合RoHS环保标准,不含铅等有害物质,符合现代电子产品的环保要求。

应用

TMV1512DHI广泛应用于高性能电源系统,如服务器电源、电信设备电源、DC-DC转换器、电池管理系统、电机驱动器、负载开关、功率分配系统等。其低导通电阻和优异的热性能使其特别适用于高效率和高功率密度的电源设计方案。此外,在电动车(EV)和混合动力车(HEV)的功率管理系统中也有广泛应用。

替代型号

SiR142DP-T1-GE3, Infineon BSC090N15NS5, STMicroelectronics STL150N12F7, ON Semiconductor NVTFS5C471NLTDG

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