RF5110GSR 是一款由 RF Micro Devices(现为 Qorvo)推出的高功率射频晶体管,专为高频率和高功率应用设计。该器件采用 GaN(氮化镓)技术,具有优异的功率密度和热性能,适用于无线通信、雷达、测试设备以及其他需要高功率输出的射频系统。
类型:射频功率晶体管
工艺:GaN(氮化镓)
频率范围:2.7 GHz - 3.5 GHz
输出功率:100W(典型值)
增益:18 dB(典型值)
效率:65%(典型值)
漏极电压:28V
工作温度范围:-40°C 至 +150°C
RF5110GSR 采用先进的 GaN 技术制造,具有出色的热稳定性和高功率密度,能够在高频率范围内提供稳定的性能。该器件的高效率和高线性度使其适用于多种高要求的射频应用,同时具备良好的耐用性和可靠性,能够在恶劣环境下运行。
此外,RF5110GSR 设计紧凑,便于集成到现代射频系统中,且具备良好的散热性能,有助于延长设备寿命并提高系统整体效率。其高增益特性也减少了对外部放大器的需求,从而降低了整体系统复杂性。
RF5110GSR 主要用于无线基础设施、雷达系统、测试和测量设备、工业和科学设备等需要高功率射频输出的应用。该器件的高频率范围和高功率输出使其成为 5G 通信、微波通信、宽带无线接入系统等高性能射频系统中的理想选择。
在军事和航空航天领域,RF5110GSR 也广泛用于雷达和电子战系统,提供高稳定性和高可靠性的射频功率支持。
CGH40100F, NPT1002, G1984N