HP31K102MCXWPEC是一款高性能的射频(RF)功率晶体管,专为高功率放大器应用而设计。它采用先进的LDMOS(横向扩散金属氧化物半导体)技术制造,能够在高频率下提供优异的功率增益和效率。这款器件广泛应用于无线基础设施、广播系统、雷达设备和测试测量仪器等需要高功率输出的领域。
类型:射频功率晶体管
技术:LDMOS
最大漏极电流(Id):31A
最大漏-源电压(Vds):102V
频率范围:典型工作频率范围为800MHz至1GHz
输出功率:约1200W(连续波模式)
增益:典型值28dB
效率:大于65%
封装形式:金属陶瓷封装
工作温度范围:-55°C至+150°C
HP31K102MCXWPEC具备多个关键特性,使其成为高功率射频应用的理想选择。
首先,它使用了LDMOS技术,这使得器件在高频操作下依然能够保持良好的线性度和稳定性,从而实现高质量的信号传输。
其次,该晶体管具有极高的输出功率能力,能够在连续波模式下提供高达1200W的输出功率,满足高强度通信和工业应用的需求。
此外,HP31K102MCXWPEC具有良好的热稳定性和可靠性,在高功率密度环境下仍能保持较低的工作温度,延长了器件的使用寿命。
该器件还具有较高的增益和效率,典型增益可达28dB,效率超过65%,从而减少了对额外驱动级的需求,并降低了整体系统的能耗。
最后,HP31K102MCXWPEC采用金属陶瓷封装,具有优良的散热性能和机械稳定性,适用于严苛的工作环境。
HP31K102MCXWPEC主要用于需要高功率输出的射频系统中,包括:
? 无线基站和蜂窝通信系统(如4G LTE和5G预研系统)
? 广播发射机(如FM和TV广播)
? 雷达系统和军事通信设备
? 工业加热和等离子体发生设备
? 高功率测试和测量仪器(如信号发生器和功率放大器)
在这些应用中,HP31K102MCXWPEC能够提供稳定、高效的射频功率输出,确保系统的可靠运行。
NXP AFT05HP1200S-1200W LDMOS射频功率晶体管