HGTH20N50E1是一款高功率N沟道增强型MOSFET(金属氧化物半导体场效应晶体管),由东芝(Toshiba)公司生产,适用于高电压和高电流的应用场景。该器件具有低导通电阻、高耐压能力以及良好的热稳定性,使其在电源管理、电机控制和工业自动化等领域得到广泛应用。
类型:N沟道MOSFET
最大漏极电流:20A
最大漏-源电压:500V
导通电阻(Rds(on)):0.23Ω
栅极电压范围:±20V
功率耗散:150W
封装类型:TO-247
工作温度范围:-55°C ~ 150°C
HGTH20N50E1具备多项优异的电气和物理特性,首先是其低导通电阻,这使得在导通状态下能够减少功率损耗,提高系统效率。其次是其高耐压能力,最大漏-源电压达到500V,能够应对高电压工作环境,同时具备良好的雪崩击穿能力,增强了器件的可靠性。
此外,该MOSFET采用了先进的封装技术,TO-247封装形式不仅提供了良好的散热性能,还能有效保护内部芯片免受外界环境的影响。其高功率耗散能力(150W)也意味着在高负载条件下仍能稳定运行。
在驱动方面,该器件的栅极电压范围为±20V,具有较强的抗过压能力,同时其栅极电荷较低,有助于提高开关速度,减少开关损耗。这些特性使得HGTH20N50E1特别适合用于高频开关应用,如DC-DC转换器、AC-DC电源和电机驱动器。
HGTH20N50E1广泛应用于各类高功率电子设备中,例如开关电源(SMPS)、工业电机驱动、逆变器、不间断电源(UPS)、LED照明系统以及电动车充电器等。其优异的性能使其成为高性能电源转换和控制系统的理想选择。在工业自动化领域,该器件常用于变频器和伺服驱动器中,提供高效的功率控制解决方案。此外,在新能源应用如太阳能逆变器和储能系统中,HGTH20N50E1也能发挥重要作用。
2SK2647, IRFHEXFET系列如IRF840, STP20N50