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FDP4D5N10C 发布时间 时间:2025/7/18 19:50:52 查看 阅读:3

FDP4D5N10C 是一款由 ON Semiconductor(安森美半导体)生产的 N 沟道增强型功率 MOSFET(金属氧化物半导体场效应晶体管)。该器件设计用于高功率密度和高效率的电源应用,如开关电源(SMPS)、DC-DC 转换器、电机控制和电池管理系统等。FDP4D5N10C 采用了先进的沟槽技术,具有低导通电阻(Rds(on))、高耐压和高电流承载能力,适合在高频率和高温环境下工作。

参数

类型:N 沟道 MOSFET
  漏源电压(Vds):100V
  栅源电压(Vgs):±20V
  漏极连续电流(Id):50A
  导通电阻 Rds(on):最大 4.5mΩ @ Vgs = 10V
  功率耗散(Pd):250W
  工作温度范围:-55°C 至 +175°C
  封装形式:TO-263(D2Pak)

特性

FDP4D5N10C 具备多项优异特性,使其在功率电子设计中具有广泛的应用前景。首先,其极低的导通电阻(Rds(on))可显著降低导通损耗,提高系统效率。在 Vgs = 10V 时,Rds(on) 最大值仅为 4.5mΩ,这使得该器件在大电流应用中表现尤为出色。
  其次,该 MOSFET 采用先进的沟槽技术(Trench Technology),在保持小尺寸的同时实现了高耐压(100V)和高电流能力(50A)。这种设计使其在高频开关应用中具有良好的动态性能,减少了开关损耗。
  此外,FDP4D5N10C 采用 TO-263(D2Pak)封装形式,具有良好的热性能和机械稳定性,适用于表面贴装(SMT)工艺,便于自动化生产。该封装还具备较高的功率耗散能力(250W),适合在高温环境中使用。
  该器件还具备良好的抗雪崩能力和过热保护性能,能够在恶劣的工作条件下保持稳定运行,提高系统的可靠性和使用寿命。
  由于其优异的电气特性和封装优势,FDP4D5N10C 被广泛应用于各种高功率密度系统中,如服务器电源、工业自动化设备、电动工具、电池管理系统(BMS)和新能源汽车相关系统等。

应用

FDP4D5N10C 主要用于需要高效率、高功率密度和高可靠性的功率电子系统。常见应用包括:开关电源(SMPS)、DC-DC 转换器、电机驱动器、电池管理系统(BMS)、太阳能逆变器、工业自动化控制设备、电动工具和汽车电子系统等。其优异的导通特性和封装散热性能使其特别适合高频、高电流的工作环境。

替代型号

IRF1405, FDP50N10, FDP50N10A, STP55NF06, FDP4D5N10C0

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FDP4D5N10C参数

  • 现有数量670现货800Factory
  • 价格1 : ¥48.81000管件
  • 系列PowerTrench?
  • 包装管件
  • 产品状态在售
  • FET 类型N 通道
  • 技术MOSFET(金属氧化物)
  • 漏源电压(Vdss)100 V
  • 25°C 时电流 - 连续漏极 (Id)128A(Tc)
  • 驱动电压(最大 Rds On,最小 Rds On)10V
  • 不同 Id、Vgs 时导通电阻(最大值)4.5 毫欧 @ 100A,10V
  • 不同 Id 时 Vgs(th)(最大值)4V @ 310μA
  • 不同 Vgs 时栅极电荷?(Qg)(最大值)68 nC @ 10 V
  • Vgs(最大值)±20V
  • 不同 Vds 时输入电容 (Ciss)(最大值)5065 pF @ 50 V
  • FET 功能-
  • 功率耗散(最大值)2.4W(Ta),150W(Tc)
  • 工作温度-55°C ~ 175°C(TJ)
  • 安装类型通孔
  • 供应商器件封装TO-220-3
  • 封装/外壳TO-220-3