FDP2010DN 是一款由 ON Semiconductor(安森美半导体)生产的 N 沟道增强型功率 MOSFET。该器件采用先进的沟槽技术,具有低导通电阻(Rds(on))和高功率密度的特点,适用于需要高效能和高可靠性的电源管理系统。FDP2010DN 封装为 TO-220,适用于多种工业应用,包括 DC-DC 转换器、负载开关、电机控制等。
类型:N 沟道 MOSFET
漏源电压(Vds):20V
栅源电压(Vgs):±20V
连续漏极电流(Id)@25°C:4.0A
漏源导通电阻(Rds(on))@4.5V:10.5mΩ(最大)
漏源导通电阻(Rds(on))@2.5V:13.5mΩ(最大)
功耗(Pd):60W
工作温度范围:-55°C ~ +175°C
封装:TO-220
晶体管数量:1
技术:沟槽型 MOSFET
FDP2010DN 采用先进的沟槽技术,使其在低电压应用中表现出色,特别是在需要低导通电阻和高效率的场合。该器件的 Rds(on) 非常低,在 Vgs = 4.5V 时最大为 10.5mΩ,这有助于减少导通损耗并提高系统效率。此外,FDP2010DN 支持在低至 2.5V 的栅极驱动电压下工作,使其适用于电池供电设备和低电压数字控制器。
TO-220 封装提供了良好的热性能,有助于器件在高电流下保持较低的温度,同时具备良好的机械稳定性和易于安装的特点。器件的栅极驱动电压范围为 ±20V,确保了在各种工作条件下的稳定性和可靠性。
该 MOSFET 具有良好的短路耐受能力,并且在高温环境下仍能保持稳定的性能。这些特性使其非常适合用于需要高可靠性和高效能的电源管理系统,如负载开关、DC-DC 转换器、电池管理系统和电机控制电路。
此外,FDP2010DN 还具有快速开关能力,能够减少开关损耗,从而进一步提高系统的整体效率。这种特性在高频开关应用中尤为重要。
FDP2010DN 主要应用于需要高效能、低导通电阻和高可靠性的电源管理系统。常见应用包括 DC-DC 转换器、同步整流器、负载开关、电池管理系统、电机控制、电源管理模块、工业自动化设备以及消费类电子产品中的电源控制部分。由于其低 Rds(on) 和高电流能力,该器件也适用于需要高效能和紧凑设计的便携式电子设备。
Si2302DS, FDS6675, IRF7404, FDMS86101, FDP2010N