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石英晶体膜厚控制仪
阅读:6069时间:2011-03-03 19:51:04

  石英晶体膜厚控制仪具有先进的电子学,具有精确的过程控制,尤其用于低淀积率,在10读值/秒时的分辨率为±0.03Hz,在0至50°C温度范围内的频率稳定性为±2ppm。用单传感器或多传感器监测源材料,提供精确的源分布监测。

特点

  1、标准RS-232和USB(有以太网选件)。

  2、贮存容量高至100个工艺过程,1,000个膜层,50个膜系。

  3、用单传感器或多传感器监测源材料,提供精确的源分布监测。

  4、高亮度,VGA活性点阵彩色LCD显示器–可显示英文或中文。

  5、易设置和操作,有“快速设置”菜单,6个上下文-敏感的按钮,和方便的参数设定旋钮。

  6、Window程序用于开发,测试,和下载工艺过程,和将仪器数据记录至您的PC上,用于过程分析与质量控制。

  7、精确的过程控制,尤其用于低淀积率,在10读值/秒时的分辨率为±0.03Hz,在0至50°C温度范围内的频率稳定性为±2ppm。

参数

  ◆ 频率分辨率:在6.0 MHz时0.03 Hz

  ◆ 质量分辨率:0.375 ng/cm2

  ◆ 感应晶片频率:2.5, 3, 5, 6, 9.5, 10 MHz

  ◆ 膜厚显示:0.000~ 999.9 KÅ

  ◆ 成膜速率:00.0~999 Ang/sec (0~9.99μm/min)

  ◆ 膜层数量:1~999

  ◆ 图形显示:256×64 LCD ,CCFL背景照明

  ◆ 全套配置

  ◆ MDC360C主机 一台、振荡器及电缆线 一套、探头 一个、晶片 5片

  ◆ 主机尺寸:16.98×3.47×9.355(单位:英寸)、前面板宽度18.98英寸

用途

  石英晶体膜厚控制仪适用于控制多源、多坩埚、多材料或多过程系统的膜层沉积速率和膜厚。石英晶体膜厚控制仪可满足即使最复杂、要求与特殊应用的需要。它擅长于过程控制、逻辑功能、程序和膜层储存容量、过程数据管理,尤其是沉积速率与膜厚的控制。

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